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光学薄膜制备简介
时间:2021/5/31 10:24:03  浏览:

差之毫厘,失之千里。光学薄膜制备作为精密制造领域之一,其精密程度常常达到纳米甚至微纳级别,因此,其制备复杂程度是不言而喻的,有时候微小的失误会导致满盘皆输,为薄膜制备带来巨大困难。

光学薄膜制备简介

光学薄膜的制备是一个复杂的过程,它是通过将大块固体材料蒸发或溅射,经过气相传输,最后在基板上凝结得到的,在其制备过程中,包括环境真空条件(真空度)、蒸发速率、基板温度等多面的工艺因素的影响,对薄膜的微观结构和化学成分与理想状况出现较大偏差,最终导致薄膜的机械性能、抗激光损伤阈值、光学性能的变化。


在众多的工艺影响因素中,影响最大且易观察的往往是薄膜的厚度均匀性,其会严重影响薄膜的物理性能,根据制备经验,薄膜的厚度不均匀会导致薄膜光谱性能产生较大偏移,比如,在增透膜的制备过程中会导致薄膜的透射率偏低,其次他还会影响薄膜的激光损伤阈值、薄膜应力等等,正如文头说到的:差之毫厘,失之千里。因此在薄膜制备设备中,往往都配有精确度极高的膜厚监控系统。


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